涂料工业 ›› 2005, Vol. 35 ›› Issue (8): 16-18.
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聂王焰 ,周艺峰
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摘要: 以正硅酸乙酯和甲基三乙氧基硅烷为主要原料, 在酸催化下, 在醇溶液中经水解缩聚制备出石刻保护有机硅涂料。 讨论了单体配比、用水量、溶剂、催化剂、反应温度和时间对涂料性能的影响, 得出最佳的反应条件, 并对产品的性能进行了测试。
关键词: 石刻;有机硅涂料;保护;甲基三乙氧基硅烷;正硅酸乙酯
聂王焰 ,周艺峰. 石刻保护有机硅涂料的研究[J]. 涂料工业, 2005, 35(8): 16-18.
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