涂装技术

等离子体处理对水性涂层缺陷腐蚀失效影响的研究

  • 屈浩洋 ,
  • 刘改利 ,
  • 刘杰 ,
  • 张粉霞
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  • 洛阳双瑞防腐工程技术有限公司,河南洛阳 471000

屈浩洋(1990—),男,硕士研究生,助理工程师,主要从事水性涂料、防腐涂料以及材料腐蚀防护等方面的研究。

收稿日期: 2018-02-06

  网络出版日期: 2018-09-19

版权

版权所有,未经授权,不得转载、摘编本刊文章,不得使用本刊的版式设计。

Effects of Plasma Treatment on Corrosion and Failure of Waterborne Coatings

  • Haoyang Qu ,
  • Gaili Liu ,
  • Jie Liu ,
  • Fenxia Zhang
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  • Luoyang Sunrui Anti-Corrosion Engineering Technology Co.Ltd., Luoyang, Henan 471000,China

Received date: 2018-02-06

  Online published: 2018-09-19

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摘要

通过对金属基体的等离子体处理,可以提高涂层使用寿命并提高涂层防护质量。通过三维共聚焦光学测试、电化学交流阻抗测试(EIS)和扫描开尔文探针测试(SKP)等手段表征了涂层失效过程。结果表明:等离子体表面处理对水性醇酸清漆涂层缺陷腐蚀失效有着明显的延缓作用,提高了涂层的使用寿命和综合性能。

本文引用格式

屈浩洋 , 刘改利 , 刘杰 , 张粉霞 . 等离子体处理对水性涂层缺陷腐蚀失效影响的研究[J]. 涂料工业, 2018 , 48(4) : 57 -64 . DOI: 10.12020/j.issn.0253-4312.2018.4.57

Abstract

The air plasma treatment on metal substrate has been used to improve the service life and corrosion resistance performance of alkyd varnish coatings (AVCs). Characterization methods such as the depth from defocus method,electrochemical impedance spectroscopy (EIS) and scanning Kelvin probe testing (SKP) are adopted to characterize and analysis the coating failure process. Experiment results show that the plasma treatment can enhance the protective performance of coating and inhibit coating failure.

随着国家对环保的日益重视,水性涂料以其环保优势成为涂料行业的绿色发展方向之一。但水性涂料的性能与溶剂型涂料相比仍有较大差距,水性涂料耐水性和耐腐蚀性差阻碍了其大范围地推广应用[1,2]。通过对金属基体材料的表面处理,可以提高金属/涂层体系的整体防护性,有利于水性涂料在金属基材上的使用和推广。金属基材传统的表面处理方法,如电镀、化学镀等易对环境造成污染。等离子体处理作为一种新的表面处理手段,已受到研究者的广泛关注[3,4]。而等离子体处理不仅效果明显,而且绿色环保,对基体表面的改性可以不对基体表面的性质有太大的改变,另外也具有安全性高、操作容易等优点,有希望被行业大力推广。
等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,常被视为固体、液体、气体以外物质存在的第四态。等离子体处理可以把一些羟基、羰基等功能性官能团与待处理试样表面连接,经等离子体处理后可以提高材料表面的亲水性,改善表面的铺展性能,可以使有机涂层更好地润湿机体表面,减少气孔的产生[5,6,7],从而使基体表面更好地与涂层结合,延缓其失效过程。Yang等[5]用空气等离子体法处理不锈钢电极并发现在电极表面氧原子含量由3%增长到17.4%,氮原子含量由0增长到2.7%。Prysiazhnyi等[6]用空气等离子体法处理铝电极表面,结果发现铝表面的—OH基团有了明显的增加。Samad等[7]也观察到空气等离子体法明显增强了铁基体和表面膜之间的结合力,并且经等离子体处理的膜的寿命也比非等离子体处理的膜的寿命有了显著的延长。但等离子体处理在金属/水性涂层体系方面却鲜有研究,本文针对这一问题展开实验探讨,研究等离子体处理对金属/水性涂层体系的影响。
另外,完整涂层在水环境下的失效过程已经被大量研究,但对带有缺陷涂层的失效过程研究却相对较少。在现实施工过程中,由于基材、施工和涂料等因素的原因,涂层表面会产生一些缺陷,所以缺陷处的涂层失效过程研究就显得尤为重要。

1 实验部分

1.1 实验材料

以上海宝钢公司生产的Q235碳钢作为金属基体材料,以双瑞防腐工程技术有限公司生产的水性醇酸清漆作为试验用涂料。乙醇和NaCl等所有试剂均为国药集团化学试剂有限公司生产。实验用水为经重庆摩尔水处理设备有限公司生产的摩尔纯水机处理过的三级去离子水。

1.2 等离子体处理和清漆试样的制备

先将Q235碳钢试样制成10 mm×10 mm×10 mm,一面连接金属导线,其对立面作为涂覆涂层的基体。其他部分均用环氧树脂封闭。用水磨SiC砂纸从400目到1 200目打磨至基体表面光滑,打磨的试样用乙醇溶液超声处理除油,并用去离子水清洗并吹干。
使用型号为APJD-1000的等离子体处理器处理金属基体表面,选择使用空气等离子处理通道,对金属基体表面均匀处理5 min。在试样被处理完5 min之内用滚涂刷将清漆涂覆于基体表面,并控制涂层厚度在50 μm左右。
涂层干燥后,使用深圳博泰激光有限公司的型号为BETTER的激光刻蚀仪,在涂层的中心位置制造一个直径为100 μm的宏观缺陷,并将试样浸泡于3.5%NaCl溶液中进行测试与表征。

1.3 测试与表征

1.3.1 三维共聚焦光学测试
为了从光学角度观察涂层在水环境下的失效过程,使用日本HIROX公司型号为KH-8700的三维数字共聚焦显微镜,采用共聚焦技术记录涂层缺陷处锈层的长大过程和整个涂层的失效过程。每个样品在观察拍照时都是用中倍镜头,放大倍数为140倍。
1.3.2 电化学测试
使用瑞士万通公司型号为PGSTAT302N的AUTOLAB电化学工作站测试电化学交流阻抗(EIS)。使用传统三电极体系,以Q235碳钢为基体、面积为1 cm2的涂层试样为工作电极,饱和甘汞电极(SCE)和铂铌丝分别作为参比电极和辅助电极,用超纯水和分析纯NaCl制备3.5%NaCl溶液(pH=7)作为电解质溶液,试验测试前30 min开始通N2。所有实验在室温25 ℃条件下进行。阻抗测量之前,先进行开路电位(OCP)的测量。当开路电位变动小于500 μV时,即认为开路电位稳定,可以继续进行交流阻抗测试。交流阻抗测试参数设置为:测试频率区间为100 kHz~10 mHz,振幅信号为10 mV。
使用美国Princeton公司生产的型号为VERSA SCAN SKP的扫描开尔文探针测试系统进行扫描开尔文探针(SKP)测试。使用500 μm的铂合金探针,探针与工作电极表面保持垂直距离100 μm。实验测试扫描类型为面扫描,扫描范围为X轴、Y轴方向各4 000 μm,其中缺陷是位于扫描范围中心位置。选择以步长的方式扫描移动,X轴方向和Y轴方向的扫描步长分别为200 μm和400 μm,扫描速率为100 μm/s。在不过载的情况下测试灵敏度选为50 μV,并调节测试信号的绝对值小于1 V。

2 结果与讨论

2.1 等离子体处理后基体与涂层的SEM表征

空气等离子体处理可以使基体表面增加一些功能性的基团,比如羟基、羰基等。这些基团可以与醇酸树脂中的不饱和碳碳双键、羧基、羟基、酯基等基团发生反应形成化学键,从而提高涂层与基体之间的结合力。另外也可以增加表面的粗糙度,增加结合力。
实验对比了经等离子体处理前后基体与涂层的SEM形貌,如图1所示。
图1 清漆涂层截面SEM图

Fig.1 Sectional SEM of alkyd varnish coatings

图2可以看出,基体未经等离子体处理时,清漆涂层与金属基体之间仅仅是相互附着,而基体经等离子体处理后,在清漆涂层与金属基体之间存在一个明显的过渡层。涂层与基体在附着的过程中连接形成了一个新的膜层,即等离子层。
由于等离子处理使金属基体表面带上了许多活性基团,所以该等离子层和基体金属之间有部分化学键连接,使涂层与金属成为一体,所以等离子层的出现增强了涂层与金属基体之间的湿附着力,涂层的防剥离性能有了显著的提高,使水在传输的过程中多了一层阻力,继而提高了涂层的使用寿命和失效时间。

2.2 涂层失效的三维共聚焦光学测试

图2图3分别从光学角度表征了等离子体处理前后涂层试样失效的过程。在图片的中心区域均为涂层被激光刻蚀处理过的宏观缺陷。
图2 未经等离子体处理的基材表面缺陷清漆涂层失效的三维共聚焦图谱

Fig.2 Photos from the depth-from-defocus method showing the development of coating failure for non-plasma-treated Q235 steel with crevice AVCs

图3 经等离子体处理的基材表面缺陷清漆涂层失效的三维共聚焦图谱

Fig.3 Photos from the Depth-from-Defocus method showing the development of coating failure for plasma-treated Q235 steel with crevice AVCs

图2图3可以看到,在中心宏观缺陷处,随着浸泡时间的增长,缺陷处的腐蚀产物逐渐从无到有,再逐渐累积,直到填满整个缺陷处。从图中还可以看出,在初始浸泡时期,涂层中间的宏观缺陷可以作为水传输的宏观通道,但随着腐蚀产物的累积,逐渐填满了这个水传输的宏观通道,随之使水的传输变得困难。另外在腐蚀产物累积的同时,由于水的传输,在涂层与金属基体之间的界面处会储存一些水,导致涂层的附着力下降,涂层出现剥离或者鼓泡的现象,沿着缺陷处由里向外逐渐剥离,剥离区域略高于未剥离。
对比图2图3可知,基材经等离子处理后,清漆涂层在失效过程中,其缺陷处腐蚀产物的积累相对缓慢,涂层剥离的速率也相对较慢,这主要归因于等离子体处理后,涂层和基体之间的湿附着力增强,所以同样程度的水的渗入对涂层在基体表面的附着影响相对较小。

2.3 涂层失效的EIS分析

对浸泡在3.5%NaCl溶液中的涂层进行EIS测试,以表征涂层的失效过程。当涂层的模值维持在108 Ω·cm2以上时,涂层具有良好的耐腐蚀性。当涂层的模值降低至107 Ω·cm2时,说明体系的耐蚀性明显降低。当涂层的模值继续降低至106 Ω·cm2时,表明涂层对水分子和氯离子等侵蚀性粒子的防护性能已渐渐消失,在涂层和金属界面的某些局部位置会发生腐蚀电化学反应[8,9]
图4图5是等离子体处理前后基材表面对应涂层的EIS图谱。2种涂层的失效过程大致均可以分为3个阶段:缺陷处的渗水和腐蚀产物的积累[如图4(a)~图4(c)和图5(a)~图5(c)]、涂层的全面渗水[如图4(d)~图4(f)和图5(d)~图5(f)]、涂层失效[如图4(g)~图4(i)和图5(g)~图5(i)]。
图4 未经等离子体处理的基材表面的清漆涂层失效的EIS图谱

Fig.4 The EIS of the process of the coating failure of AVCs

图5 经等离子体处理的基材表面的清漆涂层失效的EIS图谱

Fig.5 The EIS of the process of the coating failure of AVCS for plasma-treated Q235 steel with crevice AVCs

其中,Nyquist曲线的横纵坐标分别代表模值Z的实部和虚部,表示模值的实部和虚部随着频率的变化而变化的曲线规律。Bode曲线则表示模值和相位角随频率的变化而变化的曲线规律。从图4(a)~图4(c)可以看出,在第一阶段有2个时间常数,在中频和高频区分别有个电容弧,其中中频区电容弧为涂层和金属基体之间的双电层电容,高频区的电容弧为涂层和电解质溶液之间的双电层电容。在这个阶段由于水在涂层中的渗透不明显,涂层防护效果较好,所以|Z|f=0.01的值比较大。然而,由于缺陷的存在水可以很容易沿着缺陷到达基体表面,与之同时氧离子和氯离子也会到达基体表面,对基体表面状态造成破坏形成腐蚀电池。结果,随着水的渗透|Z|f=0.01的值也快速下降。未经等离子体处理的基材表面, 涂层|Z|f=0.01的值由8×106 Ω·cm2降到了1×106 Ω·cm2
图4(d)~图4(f)可以看出,在第二阶段也有2个时间常数,分别为涂层和溶液之间的双电层电容以及涂层和基体之间的双电层电容。然而,随着缺陷处腐蚀产物的累积,腐蚀产物填充了缺陷这个宏观渗水通道,|Z|f=0.01的值也重新上升到8×106 Ω·cm2。在这个阶段,水的传输只缓慢地在涂层的微孔中进行,因此与之对应的阻抗谱[如图4(d)]中有一个长长的warburg扩散尾。
图4(g)~图4(i)可以看出,在第三阶段,随着水在涂层微孔中的持续传输,微孔也逐渐变大,水渗透到基体表面,warburg扩散尾也随之消失,涂层全面失效。在这个阶段,涂层发生局部的阴极剥离,|Z|f=0.01的值也迅速降到了0.1×106 Ω·cm2
对比图4图5可以看出,与未经等离子体处理的基材上的涂层相比,由于金属氧化层的作用,等离子体处理后基材上的涂层的|Z|f=0.01的值下降速率相对较慢,可以看出基材经等离子体处理后与涂层间产生的等离子层延长了涂层的失效时间。
图6图7是等离子体处理前后基材表面清漆涂层EIS图谱的等效电路图。其中RsRs'分别是实验拟合的未经等离子体处理和经等离子体处理的基材表面涂层体系的NaCl电解质溶液的电阻;RcRc'表示涂层电阻;RctRct'表示电荷转移电阻;Rp'表示等离子体层电阻;CcCc'表示涂层和电解质溶液的双电层电容;CctCct'表示据电荷转移的双电层电容。
图6 未经等离子体处理的基材表面清漆涂层EIS图谱的等效电路图

Fig.6 The equivalent circuit of EIS of alkyd varnish coatings

图7 经等离子体处理的基材表面清漆涂层EIS图谱的等效电路图

Fig.7 The equivalent circuit of EIS of alkyd varnish coatings on plasma-treated substrace

为了使拟合数据和实验数据有更好的重合度,常相位角元件(CPE)Q被引入替代纯电容元件在拟合阻抗谱期间。QcQc'分别是用来代替实验拟合的未经等离子体处理和经等离子体处理的基材表面涂层体系中涂层电容的常相位角元件,QpQct'分别表示等离子体层和电荷转移的常相位角元件。ZwZw'表示warburg阻抗。
比较图6图7发现,等离子体处理基材表面的涂层试样在第二阶段比未经等离子体处理的基材表面的涂层试样多一个Qp,即多一个等离子体层。该等离子体层对延缓涂层失效和增长涂层寿命有着显著的作用。
图8显示了等离子体处理前后基材表面涂层体系|Z|f=0.01RcRe随时间变化趋势。
因为Bode图的低频区可以反映涂层的模值,低频区(|Z|f=0.01)的大小也是作为评估涂层耐腐蚀性的标准之一。从图8可以看出,2种涂层试样|Z|f=0.01值随时间变化的曲线都有一个明显的峰出现。|Z|f=0.01值的增长是由于腐蚀产物的累积阻塞了水的传输通道。此外,相比而言,等离子体处理后的基材上涂层|Z|f=0.01值整体上都要大于未经等离子体处理的基材上的涂层,前者|Z|f=0.01值下降到105 Ω·cm2所用的时间也要远远大于后者。RcRct随时间的变化曲线也有相似的趋势,因为腐蚀产物的累积出现一个明显的峰,但其整体趋势是下降的。经等离子体处理后基材上涂层的RcRct值也明显较大。综合以上分析,说明等离子体处理对增加涂层寿命和延缓涂层失效有明显的效果。
图8 等效电路中元件随时间变化趋势

Fig.8 The curve that elements of equivalent circuit varied with time

2.4 涂层失效的SKP分析

EIS测试只局限于反映涂层整个表面的电化学平局响应情况,不能对涂层局部的腐蚀剥离情况进行准确的定位和分析,无法捕捉局部缺陷处的发展和扩展情况,所以为了更加准确地捕捉分析涂层失效剥离的具体信息和涂层局部的信息,还需扫描Kelvin探针技术。它可以无损并且原位地测试涂层的失效过程和局部的缺陷或者剥离处的发展信息,和EIS技术形成相辅相成的效果[10,11,12]
本实验使用SKP测试技术分析涂层的失效程度和等离子体处理对涂层失效的影响,结果如图9图10所示,图9图10分别为涂层随着浸泡时间增长的不同时期的SKP图谱,其中横纵坐标分别为SKP图谱扫描的区域范围。经过初始的浸泡之后,水经过涂层中心的缺陷到达基体,使基体开始腐蚀。随着腐蚀产物的累积,导致涂层与中心缺陷区产生电势差。涂层低电势区域可以认为是涂层的失效区域,相对高电势区域为完好涂层区域。
图9 未经等离子体处理的基材表面的清漆涂层失效的SKP图谱

Fig.9 The SKP of the coating failure process of AVCs on non-plasma-treated substrace

图10 经等离子体处理的基材表面的清漆涂层失效的SKP图谱

Fig.10 The SKP of the coating failure process of AVCs on plasma-treated substrace

图9图10可以看到,中心缺陷区域的电势是相对较低的区域,而外部完好涂层区域是电势相对较高的区域,随着时间的推移,中心缺陷区域的面积逐渐增大,完好涂层区域逐渐减小。说明随着浸泡时间的延长,水和氧气沿着缺陷处和涂层微孔进入基体,涂层逐渐沿着缺陷处开始失效剥离,直到最后涂层大部分区域都失效。相比未经等离子体处理的基材表面的涂层而言,基材经等离子体处理后涂层SKP测试图谱中心区域的增长速率更加缓慢,低电势区域面积更小。为了更清楚准确看清其中变化规律,在图9图10中,分别截出在Y=2 mm处的电位变化曲线。未经等离子体处理和经等离子体处理的基材表面清漆涂层失效过程SKP图谱在Y=2 mm处的截面图如图11所示。由图11可知,随着浸泡时间的延长,电位逐渐变得越来越低,低电位的范围也越来越大。
图11 Y=2 mm处不同时间涂层的SKP截面图

Fig.11 SKP sectional view of coating with or without plasma treatment at Y=2 mm at different times

低电位区域的增长速率和涂层的失效速率成正比,增长速率越大失效速率越快。图12图11中电势低于0 mV的SKP图谱的X轴长度随时间的变化的趋势图。
图12 电势低于0 mV的SKP图谱X轴长度随时间的变化

Fig.12 The trend chart of the change of the length of the SKP with the electric potential below 0 mV

图12可知,未经等离子体处理的基材表面的涂层的曲线在等离子体处理涂层曲线的上方,说明前者的低电势范围大于后者;且前者曲线的斜率要大于后者,说明前者的低电势的增长速率也大于后者。这些均能表明基材经等离子体处理后涂层的失效速率较小。

3 结 语

通过对金属基体表进行等离子体处理,再涂上水性醇酸清漆,与未经等离子体处理的水性醇酸清漆涂层体系进行对比实验,比较其性能差异。从三维共聚焦光学测试分析,未经等离子体处理的基材表面涂层缺陷处的腐蚀产物的累积比经等离子体处理后基材表面涂层多,且前者涂层的失效速率比后者快。结果表明,对金属基体进行等离子体处理,可以延缓涂层和金属基材的腐蚀失效过程,并增加涂层的使用寿命。
对比2种涂层的EIS图谱以及拟合数据发现,基材经等离子体处理后涂层的|Z|f=0.01值在整个失效过程均比未经等离子体处理的涂层高,而且下降到0.1×106 Ω·cm2所用的时间也大大增加。从拟合电路中可以得出,基材经等离子体处理后,涂层增加了一个等离子体层,对阻碍水和氧气的渗透、提高涂层寿命和保护基体金属有着明显的效果。
从SKP图谱分析可以得出,相比未经等离子体处理的涂层而言,基材经等离子体处理后涂层SKP测试图谱中心区域的增长速率更加缓慢,低电势区域面积更小,说明该涂层的寿命有所延长,失效所用的时间也有所增加。
所以,等离子体表面处理对水性醇酸清漆涂层缺陷腐蚀失效有着明显的延缓作用,提高了涂层的使用寿命和综合性能。
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